Pat
J-GLOBAL ID:200903057654323663
希薄NOx排気ガス後処理システムに高脱硝選択性を有する金属/金属酸化物をドープされた酸化物触媒
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
谷 義一 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002303514
Publication number (International publication number):2003190788
Application date: Oct. 17, 2002
Publication date: Jul. 08, 2003
Summary:
【要約】【課題】 希薄NOx排気ガス後処理システムに高脱硝選択性を有する金属/金属酸化物をドープされた酸化物触媒を提供する。【解決手段】 希薄NOx触媒およびその作成方法が開示されている。希薄NOx触媒は、セラミック基質と、基質に堆積された酸化物担体材料、好ましくはγ-アルミナと、酸化物担体材料に導入された金属促進剤またはドーパントとを含む。金属促進剤またはドーパントは、インジウム、ガリウム、錫、銀、ゲルマニウム、金、ニッケル、コバルト、銅、鉄、マンガン、モリブデン、クロム、セリウム、バナジウム、それらの酸化物およびそれらの組み合わせからなる群より選択される。γ-アルミナは、好ましくは約0.5〜約2.0cc/gの細孔容積、約80〜350m2/gの表面積、約3〜30nmの平均孔径直径、および0.2重量パーセント未満またはこれに等しい不純物レベルを有する。好ましい実施形態において、γ-アルミナは、好ましくは初期湿潤含浸技術を用いてなされるγ-アルミナの金属ドーピングと共に、ゾル-ゲル法により作成される。
Claim (excerpt):
基質と、基質上に堆積した酸化物担体材料と、インジウム、ガリウム、錫、銀、ゲルマニウム、金、ニッケル、コバルト、銅、鉄、マンガン、モリブデン、クロム、セリウム、バナジウム、それらの酸化物およびそれらの組み合わせからなる群より選択され、酸化物の堆積した基質に導入されるドーパントとを含み、触媒が0.2重量パーセント以下の量の不純物および/または熱安定化剤を含む希薄NOx触媒。
IPC (5):
B01J 23/08
, B01D 53/94
, B01J 23/14
, B01J 35/10 301
, F01N 3/10
FI (7):
B01J 23/08 A
, B01J 23/14 A
, B01J 35/10 301 F
, F01N 3/10 A
, B01D 53/36 102 H
, B01D 53/36 102 D
, B01D 53/36 102 B
F-Term (70):
3G091AA18
, 3G091AB05
, 3G091BA01
, 3G091BA14
, 3G091FB10
, 4D048AA06
, 4D048AB02
, 4D048AB07
, 4D048BA03X
, 4D048BA17X
, 4D048BA19Y
, 4D048BA20Y
, 4D048BA21X
, 4D048BA23Y
, 4D048BA25Y
, 4D048BA26Y
, 4D048BA28Y
, 4D048BA34Y
, 4D048BA36Y
, 4D048BA37Y
, 4D048BA38Y
, 4D048BA41X
, 4D048BB17
, 4D048CC38
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069AA12
, 4G069BA01A
, 4G069BA01B
, 4G069BB04A
, 4G069BB04B
, 4G069BC17A
, 4G069BC17B
, 4G069BC18A
, 4G069BC18B
, 4G069BC22A
, 4G069BC22B
, 4G069BC23A
, 4G069BC31A
, 4G069BC32A
, 4G069BC33A
, 4G069BC43A
, 4G069BC54A
, 4G069BC57A
, 4G069BC59A
, 4G069BC62A
, 4G069BC66A
, 4G069BC67A
, 4G069BC68A
, 4G069CA02
, 4G069CA03
, 4G069CA08
, 4G069CA13
, 4G069EA18
, 4G069EC02X
, 4G069EC02Y
, 4G069EC03X
, 4G069EC03Y
, 4G069EC07X
, 4G069EC07Y
, 4G069EC08X
, 4G069EC08Y
, 4G069EC14X
, 4G069EC14Y
, 4G069EC15X
, 4G069EC15Y
, 4G069ED07
, 4G069FA01
, 4G069FB08
, 4G069FC08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
窒素酸化物接触還元除去触媒及び窒素酸化物の接触還元除去方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-175708
Applicant:工業技術院長
-
窒素酸化物含有排ガスの浄化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-361389
Applicant:財団法人石油産業活性化センター, 工業技術院長, 堺化学工業株式会社, コスモ石油株式会社
-
窒素酸化物の除去方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-213336
Applicant:工業技術院長, 財団法人石油産業活性化センター, 堺化学工業株式会社, コスモ石油株式会社
Return to Previous Page