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J-GLOBAL ID：200903006390026254

窒素酸化物接触還元除去触媒及び窒素酸化物の接触還元除去方法

Inventor： 羽田 政明 ,  濱田 秀昭 ,  金田一 嘉昭 ,  稲葉 仁
Applicant, Patent owner： 工業技術院長
Agent (1)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997175708
Publication number (International publication number)：1999019513
Application date： Jul. 01, 1997
Publication date： Jan. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 酸化性雰囲気下で従来より低い温度で、かつ水蒸気及び硫黄酸化物共存下においても、窒素酸化物を接触還元除去できる窒素酸化物接触還元除去触媒及び窒素酸化物の接触還元除去方法の提供。【解決手段】 インジウム、錫、鉄、銅、ニッケル、コバルト、マンガン、クロム、白金、パラジウム、ロジウム、及びイリジウムよりなる群から選ばれる少なくとも1種類の金属酸化物、酸化ガリウム並びに酸化アルミニウムを含有する窒素酸化物接触還元除去触媒、及び窒素酸化物、酸素並びに炭化水素又は含酸素有機化合物を含有するガスを前記触媒と接触させることによる窒素酸化物の接触還元除去方法。

Claim (excerpt)：

インジウム、錫、鉄、銅、ニッケル、コバルト、マンガン、クロム、白金、パラジウム、ロジウム、及びイリジウムよりなる群から選ばれる少なくとも1種類の金属の酸化物、酸化ガリウム並びに酸化アルミニウムを含有するものであることを特徴とする窒素酸化物接触還元除去触媒。

IPC (7)：

B01J 23/62 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01J 23/08 ,  B01J 23/26 ,  B01J 23/34 ,  B01J 23/72 ,  B01J 23/835

FI (7)：

B01J 23/62 ZAB A ,  B01J 23/08 A ,  B01J 23/26 A ,  B01J 23/34 A ,  B01J 23/72 A ,  B01D 53/36 102 G ,  B01J 23/82 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 特開平4-349938
  
• 窒素酸化物接触還元用触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-288376   Applicant：財団法人石油産業活性化センター, コスモ石油株式会社, 堺化学工業株式会社, 工業技術院長
• 排ガス浄化用触媒及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-045702   Applicant：日産自動車株式会社
• 窒素酸化物除去用酸化物触媒材料並びに窒素酸化物除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-063809   Applicant：京セラ株式会社
• 排ガス浄化用触媒及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-296198   Applicant：日野自動車工業株式会社
• 窒素酸化物の浄化方法および浄化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-022899   Applicant：東レ株式会社
• 排ガス浄化用触媒及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-054254   Applicant：日野自動車工業株式会社
• 排ガス浄化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-062857   Applicant：日産自動車株式会社