蛍光断層画像計測装置

Inventor：
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：土井清暢
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004240739
Publication number (International publication number)：2006055396
Application date： Aug. 20, 2004
Publication date： Mar. 02, 2006
Summary：

【課題】散乱媒質内の蛍光物質分布を正確に計測画像化する装置を提供する。【解決手段】本発明は、生体等の光散乱媒質の中に存在する蛍光物質を生体外から断層画像計測するための装置であって、励起用レーザービームとこれにより発生した蛍光に強度変調を与える集束型超音波トランスデューサ、光学フィルター付光検出器、信号検波装置からなっており、レーザービーム軸に直交または平行するように超音波ビーム伝搬軸をもつよう配置した集束型超音波トランスデューサが、多重散乱された励起光および蛍光をその焦点位置において局所的に強度変調するよう構成され、超音波トランスデューサ又は測定試料とレーザービームを3軸走査しながら得られた光信号から変調周波数成分を検出し、散乱媒質内の蛍光物質分布を画像化する装置である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

試料である光散乱媒質中に存在する蛍光物質を該媒質外から断層画像計測するための装置であって、励起用レーザー光源と、集束型超音波トランスデューサと、走査手段と、光学フィルター付光検出器及び信号検波装置とを有し、前記レーザー光源からのレーザービームによって発生した蛍光を超音波ビームの集束焦点域において強度変調し、光検出器の出力の信号を検波して変調周波数成分を検出することにより、該焦点域からの蛍光のみを検出し、前記走査手段により必要範囲を走査することによって、光散乱媒質中の蛍光物質分布を画像化することを特徴とする断層画像計測装置。

IPC (2)：

A61B 10/00 , G01N 21/64

FI (2)：

A61B10/00 E , G01N21/64 Z

F-Term (14)：

2G043AA03 , 2G043BA16 , 2G043DA06 , 2G043EA01 , 2G043FA01 , 2G043GA02 , 2G043GB01 , 2G043HA05 , 2G043JA03 , 2G043KA02 , 2G043KA05 , 2G043KA09 , 2G043LA01 , 2G043LA02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

共焦点用光スキヤナ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-015411 Applicant：横河電機株式会社
光計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-262815 Applicant：アロカ株式会社
蛍光タンパク質を使用する断層撮影イメージングのための方法およびシステム
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2007-502936 Applicant：ザ・ゼネラル・ホスピタル・コーポレーション

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