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J-GLOBAL ID：200903057740572650

反射マスク

Inventor： 永田 浩 ,  村上 勝彦 ,  中村 浩
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991294331
Publication number (International publication number)：1993134385
Application date： Nov. 11, 1991
Publication date： May. 28, 1993
Summary：

【要約】【目的】 反射照明によって投影される反射マスクにおいて、従来と同一波長の光および同一の投影ミラーを用いたままでも、投影像の解像限界が高くなるようにする。【構成】 反射部1と非反射部2とで形成された所定のパターンを有し、反射照明によって投影される反射マスク9において、前記非反射部をはさむ両側の反射部から反射した反射光の間に位相差を生じさせる位相シフト手段1bを設けた。

Claim (excerpt)：

反射部と非反射部とで形成された所定のパターンを有し、反射照明によって投影される反射マスクにおいて、前記非反射部をはさむ両側の反射部から反射した反射光の間に位相差を生じさせる位相シフト手段を設けたことを特徴とする反射マスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 反射型マスク及びそれを用いた露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-273197   Applicant：キヤノン株式会社