フィルタ装置及びレジスト処理システム

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994098443
Publication number (International publication number)：1995236814
Application date： May. 12, 1994
Publication date： Sep. 12, 1995
Summary：

【要約】【目的】半導体ウェハ等の基板をレジスト処理するためのシステムに用いられるフィルタ装置を提供する。【構成】外気をレジスト処理システム内に取り入れるための開口部をもつ枠体と、開口部に外気を吸引するファン装置と、このファン装置の少なくとも一方面側に位置するように枠体によって支持されたフィルタエレメントと、を有し、フィルタエレメントは、アルカリ成分と反応吸着しうる酸成分を含む多孔質体を有する。

Claim (excerpt)：

外気をレジスト処理システム内に取り入れるための開口部をもつ枠体と、前記開口部に外気を吸引する吸引手段と、この吸引手段の少なくとも一方面側に位置するように前記枠体によって支持されたフィルタエレメントと、を有し、前記フィルタエレメントは、アルカリ成分と反応吸着しうる酸成分を含む多孔質体を有することを特徴とする請求項1記載のフィルタ装置。

IPC (5)：

B01D 53/46 , B01D 53/34 , B01D 53/81 , G03F 7/30 501 , H01L 21/027

FI (3)：

B01D 53/34 120 A , B01D 53/34 A , H01L 21/30 569 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

環境制御装置および環境制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-066512 Applicant：松下電器産業株式会社
特開平2-040215
特開昭55-162340

Show all

Return to Previous Page