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J-GLOBAL ID：200903057805535668

荷電粒子線転写装置

Inventor：
沖野 輝昭

About 沖野 輝昭


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996089371
Publication number (International publication number)：1997283405
Application date： Apr. 11, 1996
Publication date： Oct. 31, 1997
Summary：
【要約】【課題】 分割転写方式でマスクパターンの転写を行う際に、マスク上の各小領域内で実際に転写されない無駄な領域を狭くして、マスク及びマスクステージを小型化する。【解決手段】 マスク1をストラット3によって縦横に多数の小領域2に分割し、小領域2内のパターンをウエハ上に転写する際に、小領域2内のパターン形成領域34を覆う照射領域33に電子線を照射して、マスク1を矢印Aの方向に機械的に走査するのに同期して、同じ方向に同じ速度で電子線の照射領域33を移動する。これによって、パターン形成領域34とストラット3との間のスカート領域35を狭くしてマスク1を小型化する。
Claim (excerpt)：
転写すべきパターンが互いに離間する複数の小領域内に分割して形成されたマスク及び転写対象の基板を支持するステージを駆動して、前記マスク及び前記基板を同期して所定方向に連続的に移動しつつ、前記マスクに対して視野選択偏向系を介して前記小領域を照射単位として順次荷電粒子線の照射を行い、結像系を介して前記基板上で互いに実質的に接するように配置された複数の小転写領域にそれぞれ対応する前記小領域内のパターン像を結像転写することによって、前記基板上の特定範囲へ所定パターンを転写する荷電粒子線転写装置において、前記視野選択偏向系を介して前記マスク上の各小領域に荷電粒子線が照射されている際に、前記ステージによる前記マスクの前記所定方向への連続的な移動に同期して前記荷電粒子線を前記所定方向に移動する移動手段を設けたことを特徴とする荷電粒子線転写装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504
FI (5)：
H01L 21/30 541 B ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 502 C ,  H01L 21/30 541 J
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
  • 特開昭61-007627
  • 特開昭57-053938
  • 特開平3-266414
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