ポジ型レジスト組成物

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993039755
Publication number (International publication number)：1994250386
Application date： Mar. 01, 1993
Publication date： Sep. 09, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】感度、解像度、プロファイル等の諸性能のバランスに優れ、スカムのないポジ型レジスト組成物。【構成】アルカリ可溶性樹脂、及び一般式(I)〜(IV)の2種以上のフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有するポジ型レジスト組成物。(式中、R1 〜R42は各々独立して水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は水酸基を表わし、R43は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表わす。)

Claim (excerpt)：

一般式(I)〜(IV)【化1】(式中、R1 〜R42は各々独立して水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は水酸基を表わし、R43は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表わす。)で示される2種以上のフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステル、及びアルカリ可溶性樹脂を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

特開平4-295472
特開平4-241353
特開平2-084650

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