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J-GLOBAL ID：200903057978565333

露光マスク

Inventor： 増田 陽子
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995266931
Publication number (International publication number)：1997114083
Application date： Oct. 16, 1995
Publication date： May. 02, 1997
Summary：

【要約】【課題】透明部と半透明部を有して構成されるハーフトーン型マスクにおいて、隣接するパターンからのサイドローブが重なってもその光強度レベルを抑制することができる露光マスクを提供する。【解決手段】第1の透明部1と第1の半透明部2を有して構成される第1のパターン100と、第2の透明部3と第2の半透明部4を有して構成されて第1のパターンに隣接して設けられた第2のパターン200とを有し、第1の透明部1と第1の半透明部2を通過する光の位相がたがいに180°異なり、第2の透明部3と第2の半透明部4を通過する光の位相がたがいに180°異なり、かつ第1の透明部1と第2の透明部3を通過する光の位相がたがいに180°異なる露光マスク。

Claim (excerpt)：

第1の透明部と第1の半透明部を有して構成される第1のパターンと、第2の透明部と第2の半透明部を有して構成され、前記第1のパターンに隣接して設けられた第2のパターンとを有し、前記第1の透明部と前記第1の半透明部を透過する光の位相がたがいに180°異なり、前記第2の透明部と前記第2の半透明部を透過する光の位相がたがいに180°異なり、かつ前記第1の透明部と前記第2の透明部を透過する光の位相がたがいに180°異なることを特徴とする露光マスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 露光用マスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-055647   Applicant：株式会社東芝