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J-GLOBAL ID:200903057985992492

水素リッチのガスを生成させるためのコンパクトな燃料処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  安藤 克則 ,  池田 幸弘
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2002547610
Publication number (International publication number):2004515432
Application date: Dec. 05, 2001
Publication date: May. 27, 2004
Summary:
共通の軸に沿って端と端を接して積み重ねられている複数のモジュールを含んでいる装置(100)、および該装置(100)を用いて炭化水素燃料(F)を実質的に純粋な水素ガス(P)に転化する多工程法。各モジュールは、内部空間を有するシェルにして、その内部空間がシェルの第一端からその第一端と向かい合うそのシェルの第二端までのガスの流れ用通路を画成しているそのようなシェル、および上記内部空間内に含まれている加工処理用コアーにして、そのモジュールを軸方向に通過しているガス流に化学的、熱的または物理的変化をもたらすためのそのようなコアーを含む。1つの態様において、該複数モジュールは、部分酸化触媒およびスチームリホーミング触媒を含んでいる第一モジュール(110)、第一熱交換器(121)を含んでいる第二モジュール(120)、脱硫剤を含んでいる第三モジュール(130)、通過しているガス流の成分を混合するための不活性材料を含んでいる第四モジュール(140)、水性ガスシフト触媒床を含んでいる第五モジュール(150)、第二熱交換器(161)を含んでいる第六モジュール(160)および一酸化炭素酸化触媒床を含んでいる第七モジュール(170)を含む。
Claim (excerpt):
共通の軸に沿って端と端を接して積み重ねられている複数のモジュールを含む、炭化水素燃料を水素リッチのガスに転化するための装置であって、その複数のモジュールの各モジュールが: 内部空間を有するシェルにして、その内部空間がシェルの第一端からその第一端と向かい合うそのシェルの第二端までのガス流の流れ用通路を画成している上記のシェル、および上記内部空間内に含まれている加工処理用コアーにして、その軸方向に通過している上記ガス流に化学的、熱的または物理的変化をもたらす上記のコアー を含んでいる上記の装置。
IPC (3):
C01B3/38 ,  H01M8/04 ,  H01M8/06
FI (3):
C01B3/38 ,  H01M8/04 N ,  H01M8/06 G
F-Term (18):
4G140EA02 ,  4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EB12 ,  4G140EB16 ,  4G140EB22 ,  4G140EB31 ,  4G140EB33 ,  4G140EB34 ,  4G140EB36 ,  4G140EB44 ,  4G140EB46 ,  4G140EC03 ,  4G140EC05 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16 ,  5H027BA17
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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