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J-GLOBAL ID：200903058038320622

移相マスクの検査方法

Inventor： バーン・ジェン・リン
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 合田 潔 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993246667
Publication number (International publication number)：1994201602
Application date： Oct. 01, 1993
Publication date： Jul. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、移相マスクのエラー検出を容易にすることを目的とする。【構成】 本発明の第1の実施例では、厚さλθ/2πのひとみ板20中に四分の一波長板30を備えた、移相マスク10の検査用の位相差顕微鏡8が提供される。角θと波長λは位相検出感度が最適となるように調節可能である。同様のθとλの最適化方式が干渉顕微鏡アセンブリにも適用され、この場合は検査用ビームがビーム・スプリッタで2本のビームに分割され、それぞれ鏡で反射され、第2のビーム・スプリッタで再結合される。一方のビーム中の鏡を移動させて、所与のλでθをその最適値に変化させることができ、λは光源の選択またはフィルタの交換によって変えることができる。

Claim (excerpt)：

0次光または基準光をθだけ移相させることのできる調節可能な移相器を使用することからなる位相エラーの改善により、フォトリソグラフィ用移相マスクを検査する方法。

IPC (2)：

G01N 21/88 ,  G03F 1/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• マスクの検査方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-017974   Applicant：富士通株式会社
• 半導体装置のパツケージ基板
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-172907   Applicant：松下電工株式会社
• 特開平4-177111
  
• 特開平2-089015