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J-GLOBAL ID:200903058062452408
導電性ポリマーの層のパターン化方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
安達 光雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000144729
Publication number (International publication number):2001035276
Application date: May. 17, 2000
Publication date: Feb. 09, 2001
Summary:
【要約】【課題】 好適な導電性ポリマーの層のパターン化方法を提供する。【解決手段】 下記工程を含む支持体上の導電性ポリマーにおいて電極パターンを製造するための方法:- 10〜5000mg/m2の導電性ポリマーを含有する層を支持体上に適用して導電性層を作る、及び- ClO-,BrO-,MnO4-,Cr2O7--,S2O8--及びH2O2からなる群から選択された酸化剤を含有する印刷溶液を使用して前記層上に電極パターンを印刷する。
Claim (excerpt):
下記工程を含む支持体上の導電性ポリマーにおいて電極パターンを製造するための方法:- 10〜5000mg/m2の導電性ポリマーを含有する層を支持体上に適用して導電性層を作る、及び- ClO-,BrO-,MnO4-,Cr2O7--,S2O8--及びH2O2からなる群から選択された酸化剤を含有する印刷溶液を使用して前記層上に電極パターンを印刷する。
IPC (5):
H01B 13/00 503
, C08G 61/12
, C08J 5/18 CEZ
, G06F 3/033 360
, C08L 65:00
FI (4):
H01B 13/00 503 D
, C08G 61/12
, C08J 5/18 CEZ
, G06F 3/033 360 H
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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E-ビームレジスト用の塩基現像可能な放電トップ層
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-259348
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
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