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J-GLOBAL ID：200903058070982629

電子材料用洗浄液

Inventor： 森田 博志 ,  井田 純一 ,  水庭 哲夫 ,  大澤 公伸
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社
Agent (1)： 内山 充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998002284
Publication number (International publication number)：1999197678
Application date： Jan. 08, 1998
Publication date： Jul. 27, 1999
Summary：

【要約】【課題】半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板、フォトマスク用石英基板などの電子材料のウェット洗浄に用いられる、気体を溶解し、溶存不純物量が極めて少なく、簡便かつ経済的に製造することができる電子材料用洗浄液を提供する。【解決手段】あらかじめ純水と接触させて清浄化した気体を、洗浄用液体に溶解してなることを特徴とする電子材料用洗浄液。

Claim (excerpt)：

あらかじめ純水と接触させて清浄化した気体を、洗浄用液体に溶解してなることを特徴とする電子材料用洗浄液。

IPC (4)：

C02F 1/78 ,  B08B 3/08 ,  C02F 1/74 ,  H01L 21/304 647

FI (4)：

C02F 1/78 ,  B08B 3/08 A ,  C02F 1/74 Z ,  H01L 21/304 647 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開昭58-014924
  
• 精製エアーの製造装置及び製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-125493   Applicant：新日本製鐵株式会社
• マイクロエレクトロニクス産業用の高純度化学薬品の製造方法および製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-099629   Applicant：ラベーユ・ソシエテ・アノニム

Cited by examiner (4)

• 精製エアーの製造装置及び製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-125493   Applicant：新日本製鐵株式会社
• マイクロエレクトロニクス産業用の高純度化学薬品の製造方法および製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-099629   Applicant：ラベーユ・ソシエテ・アノニム
• 特開昭58-014924
  
• 特開昭58-014924