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J-GLOBAL ID:200903058081751920
光透過性スタンパの製造方法及び光メモリ素子の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
真田 有
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003326726
Publication number (International publication number):2005088444
Application date: Sep. 18, 2003
Publication date: Apr. 07, 2005
Summary:
【課題】 例えば樹脂材の塗布面積よりも小さいスタンパ原版を用いて光透過性スタンパを製造するような場合やスタンパ原版をずらして光透過性スタンパを製造するような場合であっても、光メモリ素子を製造する際にラミネート不良を生じない良好な品質の光透過性スタンパを製造できるようにする。【解決手段】 表面に凹凸パターンを有する硬化性樹脂層16を備える光透過性スタンパの製造方法を、基体上に硬化性樹脂材16を塗布する工程と、塗布された硬化性樹脂材16上にスタンパ原版13Aを載置する工程と、スタンパ原版13Aが載せられている部分以外の硬化性樹脂材16を除去する工程と、硬化性樹脂材16を硬化させる工程と、スタンパ原版13Aを分離する工程とを含むものとする。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
表面に凹凸パターンを有する硬化性樹脂層を備える光透過性スタンパの製造方法であって、
基体上に硬化性樹脂材を塗布する工程と、
塗布された硬化性樹脂材上にスタンパ原版を載置する工程と、
前記スタンパ原版が載せられている部分以外の硬化性樹脂材を除去する工程と、
前記硬化性樹脂材を硬化させる工程と、
前記スタンパ原版を分離する工程とを含むことを特徴とする、光透過性スタンパの製造方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (15):
2H047KA04
, 2H047KB08
, 2H047PA02
, 2H047PA26
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047RA06
, 2H047TA41
, 4F202AA44
, 4F202AE10
, 4F202AF01
, 4F202AG03
, 4F202CA01
, 4F202CK12
, 4F202CK43
Patent cited by the Patent:
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