Pat
J-GLOBAL ID：200903053310562345

光透過性スタンパ及びその製造方法並びに光メモリ素子の製造方法及び光メモリ素子

Inventor：
石原 啓

About 石原 啓

, 
山内 康嗣

About 山内 康嗣


Applicant, Patent owner：
三菱化学株式会社

About 三菱化学株式会社


Agent (1)： 真田 有
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001042362
Publication number (International publication number)：2002120286
Application date： Feb. 19, 2001
Publication date： Apr. 23, 2002
Summary：
【要約】【課題】 コア層及びクラッド層を樹脂製にし、上記の凹凸パターンを簡易に形成できるようにして、光メモリ素子を容易かつ安価に実現できるようにする場合に、光メモリ素子の製造工程(特に、コア層及びクラッド層を積層する工程)の効率化,簡略化を図りながら、大容量化を実現すべく積層数を増やして多層化できるようにする。【解決手段】 光メモリ素子作製用スタンパを、光透過性の樹脂フィルム12と、樹脂フィルム12上に形成され、表面に凹凸パターンを有する光透過性の硬化性樹脂10とを備えるものとして構成する。
Claim (excerpt)：
光透過性の樹脂フィルムと、前記樹脂フィルム上に形成され、表面に凹凸パターンを有する光透過性の硬化性樹脂層とを備えることを特徴とする、光透過性スタンパ。
IPC (4)：
B29C 59/02 ,  B29C 59/16 ,  G02B 6/13 ,  G11C 13/04
FI (4)：
B29C 59/02 B ,  B29C 59/16 ,  G11C 13/04 Z ,  G02B 6/12 M
F-Term (21)：
2H047KA02 ,  2H047MA03 ,  2H047QA05 ,  2H047RA00 ,  2H047TA05 ,  2H047TA43 ,  2H047TA44 ,  4F209AA24 ,  4F209AA28 ,  4F209AA44 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ03 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PA15 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4F209PG05 ,  4F209PQ11
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (19)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM