離散スペクトルのスペクトル位相計測装置、及び、離散スペクトルのスペクトル位相計測方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：小池晃 , 伊賀誠司 , 藤井稔也 , 野口信博 , 山口茂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008076557
Publication number (International publication number)：2009229310
Application date： Mar. 24, 2008
Publication date： Oct. 08, 2009
Summary：

【課題】離散スペクトルのスペクトル位相を高速かつ高感度に測定する。【解決手段】レーザー光L1,L2からビームスプリッター11により分離された一方の被測定光L1a,L2aを励起光として非線形媒質12Aを含む広帯域離散スペクトル生成用セル12により広帯域離散スペクトルを発生するとともに、上記ビームスプリッター11により分離された他方の被測定光L1b,L2bに光遅延器13により遅延量を与え、上記広帯域離散スペクトル生成用セル12により生成されるスペクトルと、上記光遅延器13により遅延された上記他方の被測定光L1b,L2bを混合して和周波数スペクトル発生器14の非線形光学結晶14Bを通過させることにより和周波スペクトルを発生し、制御部15により上記光遅延器13により上記他方の被測定光L1b,L2bに与える遅延量を可変制御して、各スペクトル線が互いに干渉する様子を観測装置16で観測する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被測定光である離散スペクトル発生用の二波長のレーザー光を一方の被測定光と他方の被測定光に分離するビームスプリッターと、上記ビームスプリッターにより分離された一方の被測定光が励起光として入射され、非線形媒質を含み、上記励起光として入射される上記一方の被測定光である上記2波長のレーザー光の上記非線形媒質における差周波数に対応する周波数のコヒーレンスな屈折率変化を誘起して、広帯域離散スペクトルを発生する広帯域離散スペクトル生成用セルと、上記ビームスプリッターにより分離された他方の被測定光が入射される光遅延器と、上記一方の被測定光を励起光として上記広帯域離散スペクトル生成用セルにより生成される広帯域離散スペクトルと、上記光遅延器により遅延された上記他方の被測定光が混合されて入射される非線形光学結晶を通過させることにより和周波スペクトルを発生する和周波数スペクトル発生器と、上記光遅延器により上記他方の被測定光に与える遅延量を可変制御する制御部と、上記和周波数スペクトル発生器により発生される和周波数スペクトルを分光して観測する観測装置とを備え、上記制御部により上記光遅延器の遅延量を制御して、上記和周波数スペクトル発生器により発生される和周波数スペクトルの各スペクトル線が互いに干渉する様子を上記観測装置で観測することにより、各スペクトル線間の位相差から被測定光の位相を見積もることを特徴とする離散スペクトルのスペクトル位相計測装置。

IPC (5)：

G01J 9/02 , G02F 1/35 , H01S 3/10 , H01S 3/00 , G01J 3/28

FI (5)：

G01J9/02 , G02F1/35 , H01S3/10 C , H01S3/00 F , G01J3/28

F-Term (17)：

2G020AA04 , 2G020BA02 , 2G020CC01 , 2K002AA04 , 2K002AB12 , 2K002BA01 , 2K002EA10 , 2K002GA10 , 2K002HA19 , 2K002HA23 , 5F172NN08 , 5F172NN17 , 5F172NR12 , 5F172NR23 , 5F172NR24 , 5F172NR30 , 5F172ZZ04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

レーザー光発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-056879 Applicant：株式会社キャンパスクリエイト

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

Cited by examiner (3)

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