パンタグラフの接触力変動低減方法及びパンタグラフ

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：渡部温 , 鈴木直郁
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004098653
Publication number (International publication number)：2005287209
Application date： Mar. 30, 2004
Publication date： Oct. 13, 2005
Summary：

【課題】計測系の構成を簡単にでき、より簡便に接触力変動の低減を図ることができるパンタグラフの接触力変動低減方法等を提供する。【解決手段】本方法は、支持バネ11の変位をセンサで測定し、このセンサで検知した支持バネ11の変位の変動の低周波数成分(例えば1〜3Hz以下)をゼロに近づけるようにアクチュエータを制御する。すなわち、支持バネ11の変位の低周波成分を制御目標量FTとし、この低周波成分をゼロに近づけるように制御する。センサは、制御目標量FTとなる支持バネ11の変位を測定するものであるため、数が少なくて済み、測定自体も容易である。さらに、本方法は、低周波数成分の変動に着目し、舟体3と支持機構10との変位の位相差が小さいこと、舟体3の慣性力を無視できることといった利点を考慮しており、制御アルゴリズムの簡単化も実現できる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

トロリ線(架線)に押し当てられる舟体と、該舟体を昇降可能に支持するとともに、前記トロリ線に押し当てる押上力を制御するアクチュエータを具備する支持機構と、該支持機構と前記舟体との間に介装された支持バネと、を備えるパンタグラフの、前記トロリ線への接触力の変動を低減する方法であって、前記支持バネの変位又は力をセンサで測定し、該センサで検知した前記支持バネの変位又は力の変動の低周波数成分のみに対応して前記アクチュエータを制御することを特徴とするパンタグラフの接触力変動低減方法。

IPC (1)：

B60L5/24

FI (1)：

B60L5/24 A

F-Term (10)：

5H105AA01 , 5H105AA14 , 5H105BA02 , 5H105BB01 , 5H105CC12 , 5H105DD04 , 5H105EE03 , 5H105EE07 , 5H105EE13 , 5H105EE16

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

パンタグラフの接触力の安定化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-217515 Applicant：三菱マテリアル株式会社
集電装置と架線の間の接触力の変動を低減する装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平10-518905 Applicant：ダイムラークライスラー・アクチエンゲゼルシヤフト

Cited by examiner (5)

集電装置と架線の間の接触力の変動を低減する装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平10-518905 Applicant：ダイムラークライスラー・アクチエンゲゼルシヤフト
パンタグラフ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-069515 Applicant：財団法人鉄道総合技術研究所
特開昭61-262004

Show all

Return to Previous Page