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J-GLOBAL ID:200903058217697593

ポリアゾールポリマー系組成物及びそれを主成分とする膜、並びにポリアゾール系ポリマー組成物の成形方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000350047
Publication number (International publication number):2002146186
Application date: Nov. 16, 2000
Publication date: May. 22, 2002
Summary:
【要約】【課題】 耐熱性、機械特性に優れた膜の主成分として用いることのできるイオン性基含有ポリアゾール系ポリマー組成物及び該ポリマー組成物より得られる膜、並びに該ポリマー組成物の成形方法の提供。【解決手段】 イオン性基含有ポリアゾール系ポリマーとイオン性基を含有しないポリアゾール系ポリマーを混合してポリアゾール系ポリマー組成物とする。
Claim (excerpt):
(A)イオン性基を含まないポリアゾール系ポリマーと、(B)イオン性基を有するポリアゾール系ポリマーとからなることを特徴とするポリマー組成物。
IPC (9):
C08L 79/04 ,  B29C 41/26 ,  B29C 41/28 ,  C08G 73/06 ,  C08J 5/18 CFG ,  C08J 5/22 101 ,  B29K 81:00 ,  B29L 7:00 ,  C08L 79:04
FI (9):
C08L 79/04 Z ,  B29C 41/26 ,  B29C 41/28 ,  C08G 73/06 ,  C08J 5/18 CFG ,  C08J 5/22 101 ,  B29K 81:00 ,  B29L 7:00 ,  C08L 79:04
F-Term (49):
4F071AA58 ,  4F071AA75 ,  4F071AA76 ,  4F071AA81 ,  4F071AA88 ,  4F071AF37 ,  4F071AH15 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F205AA34A ,  4F205AC05 ,  4F205AG01 ,  4F205GA07 ,  4F205GB02 ,  4F205GC02 ,  4F205GC07 ,  4F205GE21 ,  4F205GF24 ,  4J002CM04W ,  4J002CM04X ,  4J002GD00 ,  4J002GQ00 ,  4J002GT00 ,  4J043PA04 ,  4J043PA08 ,  4J043PA10 ,  4J043PC186 ,  4J043PC206 ,  4J043QB64 ,  4J043RA42 ,  4J043RA52 ,  4J043RA57 ,  4J043SA06 ,  4J043SA71 ,  4J043TA12 ,  4J043TA71 ,  4J043TA75 ,  4J043TA79 ,  4J043UA121 ,  4J043UA122 ,  4J043UB011 ,  4J043UB021 ,  4J043UB051 ,  4J043UB121 ,  4J043UB151 ,  4J043UB281 ,  4J043UB301 ,  4J043ZB11 ,  4J043ZB14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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