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J-GLOBAL ID：200903058318119078

大粒子径のシリカ粒子を含有するシリカゾルの製造方法

Inventor： 村中 達生 ,  金井 紀夫
Applicant, Patent owner： 日本化学工業株式会社
Agent (1)： 曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999119738
Publication number (International publication number)：2000313613
Application date： Apr. 27, 1999
Publication date： Nov. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】 本発明の目的は、均一な粒子径を有し、粒度分布がシャープな平均粒子径100〜500nmのシリカ粒子を含有するシリカゾルの工業的に有利な製造方法を提供することにある。【解決手段】 本発明の平均粒子径100〜500nmの大粒子径のシリカ粒子を含有するシリカゾルの製造方法は、ビルドアップ工程及び濃縮工程を備えてなるシリカゾルの製造方法において、濃縮工程の最終工程として、公称孔径が0.05〜0.5μmの範囲内にある精密濾過膜を用いる加圧下での精密濾過を行うことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

ビルドアップ工程及び濃縮工程を備えてなるシリカゾルの製造方法において、濃縮工程の最終工程として、公称孔径が0.05〜0.5μmの範囲内にある精密濾過膜を用いる加圧下での精密濾過を行うことを特徴とする平均粒子径100〜500nmの大粒子径のシリカ粒子を含有するシリカゾルの製造方法。

IPC (2)：

C01B 33/148 ,  B01D 61/14 510

FI (2)：

C01B 33/148 ,  B01D 61/14 510

F-Term (43)：

4D006GA07 ,  4D006KE03P ,  4D006KE07Q ,  4D006KE16R ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA22 ,  4D006MA33 ,  4D006MC03 ,  4D006MC04 ,  4D006MC05 ,  4D006MC14 ,  4D006MC16 ,  4D006MC18 ,  4D006MC22 ,  4D006MC29 ,  4D006MC39 ,  4D006MC54 ,  4D006MC58 ,  4D006MC62 ,  4D006PA03 ,  4D006PB15 ,  4D006PB20 ,  4D006PB23 ,  4D006PC01 ,  4D006PC80 ,  4G072AA28 ,  4G072CC01 ,  4G072DD06 ,  4G072DD07 ,  4G072GG03 ,  4G072HH21 ,  4G072JJ22 ,  4G072LL06 ,  4G072LL09 ,  4G072MM14 ,  4G072MM22 ,  4G072PP01 ,  4G072PP09 ,  4G072TT01 ,  4G072UU01 ,  4G072UU30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 大粒径のシリカ粒子を含有するシリカゾルの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-223098   Applicant：日産化学工業株式会社
• コロイダルシリカの濃縮方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-341081   Applicant：日本碍子株式会社, 旭電化工業株式会社
• 特開昭63-064911
  
• 特開昭63-064911