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J-GLOBAL ID：200903058420624020

活性酸素発生装置

Inventor： 森田 健一 ,  川島 徳道
Applicant, Patent owner： 学校法人桐蔭学園
Agent (1)： 池内 寛幸 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997237198
Publication number (International publication number)：1999079708
Application date： Sep. 02, 1997
Publication date： Mar. 23, 1999
Summary：

【要約】【課題】 活性酸素を連続的に効率良く発生させることが可能でコンパクトな装置を提供する。【解決手段】 複合電極1において、陰極1bには活性酸素発生能を有するレドックスポリマーを担持させ、陽極1aと陰極1bとの間に、液通過性または液浸透性で厚さ0.005〜5mmのスペーサー1cを介在させる。前記複合電極1が液体と接触することにより前記レドックスポリマーが液中溶存酸素を還元して活性酸素を発生し、酸化されたレドックスポリマーが前記陰極から電子を受け取ることにより還元され、これにより連続的に活性酸素を発生させることができる。レドックスポリマーとしてはポリアニリンを使用することが好ましい。

Claim (excerpt)：

陽極と、活性酸素発生能を有するレドックスポリマーを担持する陰極とからなる複合電極を備え、前記両極の間に、液通過性または液浸透性で厚さ0.005〜5mmの範囲のスペーサーが介在され、前記複合電極が液体と接触することにより前記レドックスポリマーが液中溶存酸素を還元して活性酸素を発生し、酸化されたレドックスポリマーが前記陰極から電子を受け取ることにより還元される活性酸素発生装置。

IPC (6)：

C01B 13/02 ,  C02F 1/46 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C25B 1/02

FI (6)：

C01B 13/02 Z ,  C02F 1/46 Z ,  C02F 1/50 531 B ,  C02F 1/50 550 D ,  C02F 1/50 560 F ,  C25B 1/02