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J-GLOBAL ID：200903058637157039

X線投影露光装置及びX線投影露光方法

Inventor：
押野 哲也

About 押野 哲也


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996347059
Publication number (International publication number)：1998189414
Application date： Dec. 26, 1996
Publication date： Jul. 21, 1998
Summary：
【要約】【課題】 スループットを低下させることなく、所望の領域を均一に露光することができるX線投影露光装置と、該装置を用いたX線投影露光方法を提供すること。【解決手段】 少なくとも、X線源1と、該X線源1から発生するX線を所定パターンを有するマスク3上に照射する照明光学系2と、該マスク3からのX線を受けて前記パターンの像を基板6上に投影結像する投影結像光学系5と、前記マスク3及び前記基板6を同期させて走査する走査駆動系4、7とを備えたX線投影露光装置において、X線の強度を計測する計測系9と、計測されたX線強度に応じて前記走査駆動系4、7の走査速度を制御する制御系10、11を設けたことを特徴とするX線投影露光装置。
Claim (excerpt)：
少なくとも、X線源と、該X線源から発生するX線を所定パターンを有するマスク上に照射する照明光学系と、該マスクからのX線を受けて前記パターンの像を基板上に投影結像する投影結像光学系と、前記マスク及び前記基板を同期させて走査する走査駆動系とを備えたX線投影露光装置において、X線の強度を計測する計測系と、計測されたX線強度に応じて前記走査駆動系の走査速度を制御する制御系を設けたことを特徴とするX線投影露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (3)：
H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 531 E
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 露光制御方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-053449   Applicant：株式会社ニコン
  • 特開平4-360515

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