Pat
J-GLOBAL ID:200903058817923481
無置換グラフェン化合物の合成方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
吉田 研二
, 石田 純
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007296493
Publication number (International publication number):2009120537
Application date: Nov. 15, 2007
Publication date: Jun. 04, 2009
Summary:
【課題】テトラベンズ[a,c,h,j]アントラセン等の無置換グラフェン化合物を温和な条件で高収率かつグラムスケールで合成が可能となる無置換グラフェン化合物の合成方法を提供する。【解決手段】1,2,4,5-テトラフェニルベンゼンをルイス酸及び高原子価ヨウ素化合物のうち少なくとも1つを用いて、脱水素縮合反応させることにより種々のタイプ(少なくとも7種)の無置換グラフェン化合物。【選択図】なし
Claim (excerpt):
下記化合物(1)〜(7)のうち少なくとも1つを、
IPC (2):
FI (2):
F-Term (12):
4H006AA02
, 4H006AC28
, 4H006BA05
, 4H006BA09
, 4H006BA14
, 4H006BA18
, 4H006BA19
, 4H006BA31
, 4H006BA37
, 4H006BA67
, 4H039CA41
, 4H039CH40
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (11)
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グラファイトリボンおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-070392
Applicant:大阪瓦斯株式会社
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気相成長炭素繊維の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-243451
Applicant:日機装株式会社
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ゲート絶縁膜の改質した表面を有する有機薄膜トランジスタ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2003-575431
Applicant:スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
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ナノクリスタルグラファイト及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-217215
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
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特開昭61-275114号公報
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特開昭61-275115号公報
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グラファイト材料およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-345665
Applicant:松下電器産業株式会社
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グラファイト状物質の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-066006
Applicant:大阪瓦斯株式会社
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特公平1-18003号公報
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特開昭61-55221号公報
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特開昭63-60132号公報
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