含フッ素樹脂、感光性樹脂組成物及びフォトレジスト

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003276815
Publication number (International publication number)：2005036160
Application date： Jul. 18, 2003
Publication date： Feb. 10, 2005
Summary：

【課題】優れた撥インク性、その持続性、インク転落性、その持続性及び現像性を奏する含フッ素樹脂、及び優れた撥インク性、その持続性、インク転落性、その持続性に優れた塗膜を形成することができ、さらには微細なパターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】ポリフルオロエーテル構造からなるRf基(a)と、酸性基(b)とを有する含フッ素樹脂。該含フッ素樹脂(A)と、光酸発生剤(B)と、酸架橋剤(C)とを含有する感光性樹脂組成物。該含フッ素樹脂(A)と、光酸発生剤(B)と、酸架橋剤(C)と、アルカリ可溶性樹脂(D)とを含有する感光性樹脂組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記式1で表されるポリフルオロエーテル構造からなるRf基(a)と、酸性基(b)とを有し、酸価が1〜300mgKOH/gであることを特徴とする含フッ素樹脂。 -(X-O)n-Y ・・・式1 式1中、Xは、炭素数1〜10の2価飽和炭化水素基又は炭素数1〜10のフルオロ化された2価飽和炭化水素基であって、nで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、 Yは、水素原子(Yに隣接する酸素原子に隣接する炭素原子にフッ素原子が結合していない場合に限る)、炭素数1〜20の1価飽和炭化水素基又は炭素数1〜20のフルオロ化された1価飽和炭化水素基を示し、 nは2〜50の整数を示す。ただし、式1におけるフッ素原子の総数は2以上である。

IPC (4)：

C08F220/10 , G03F7/033 , G03F7/038 , H01L21/027

FI (4)：

C08F220/10 , G03F7/033 , G03F7/038 601 , H01L21/30 502R

F-Term (37)：

2H025AA00 , 2H025AA04 , 2H025AA13 , 2H025AB13 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CC04 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 4J100AB07Q , 4J100AE18Q , 4J100AG04Q , 4J100AJ01Q , 4J100AJ02Q , 4J100AJ09Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AM21Q , 4J100AP01Q , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA15P , 4J100BA37P , 4J100BA38P , 4J100BA56Q , 4J100BA59P , 4J100BB12P , 4J100BB13P , 4J100BB18P , 4J100CA04 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

隔壁形成用感放射線性樹脂組成物、隔壁、および表示素子。
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-271609 Applicant：ジェイエスアール株式会社
化学増幅型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-332641 Applicant：住友化学工業株式会社

Cited by examiner (1)

特開昭58-083011

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