化学増幅型レジスト組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000332641
Publication number (International publication number)：2002006501
Application date： Oct. 31, 2000
Publication date： Jan. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】170nm以下の波長の光に対する透過率に優れ、特にF2 エキシマレーザーリソグラフィに適したレジスト組成物を提供する。【解決手段】バインダー樹脂及び感放射線化合物を含有し、該バインダー樹脂が、それ自身アルカリ可溶性であるか又は放射線照射後の該感放射線化合物の作用により化学変化を起こしてアルカリ可溶性となるものであって、下式(I)(式中、Qは水素、メチル又は炭素数1〜4のフルオロアルキルを表し、R1はハロゲン、水酸基もしくは脂環式環で置換されていても良い炭素数1〜14のアルキル、又はハロゲン、水酸基、アルキル基で置換されていても良い脂環式環もしくはラクトン環を表し、Q、R1のうちの少なくとも一方は、少なくとも1個のフッ素原子を有する。)で示されるモノマーから導かれる重合単位を有する化学増幅型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

バインダー樹脂及び感放射線化合物を含有し、該バインダー樹脂が、それ自身アルカリ可溶性であるか又は放射線照射後の該感放射線化合物の作用により化学変化を起こしてアルカリ可溶性となるものであって、下式(I)(式中、Qは水素、メチル又は炭素数1〜4のフルオロアルキルを表し、R1はハロゲン、水酸基もしくは脂環式環で置換されていても良い炭素数1〜14のアルキル、又はハロゲン、水酸基、アルキル基で置換されていても良い脂環式環もしくはラクトン環を表し、Q、R1のうちの少なくとも一方は、少なくとも1個のフッ素原子を有する。)で示されるモノマーから導かれる重合単位を有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。

IPC (14)：

G03F 7/039 601 , C08F220/18 , C08F220/22 , C08F222/04 , C08F232/00 , C08K 5/00 , C08L 33/06 , C08L 33/16 , C08L 35/00 , C08L 45/00 , G03F 7/004 503 , G03F 7/004 , G03F 7/038 601 , H01L 21/027

FI (14)：

G03F 7/039 601 , C08F220/18 , C08F220/22 , C08F222/04 , C08F232/00 , C08K 5/00 , C08L 33/06 , C08L 33/16 , C08L 35/00 , C08L 45/00 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 503 B , G03F 7/038 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (60)：

2H025AB16 , 2H025AC03 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BF02 , 2H025BF08 , 2H025BF09 , 2H025BF11 , 2H025BG00 , 2H025CB43 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG081 , 4J002BH021 , 4J002BK001 , 4J002EU186 , 4J002EV166 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV256 , 4J002EW046 , 4J002EY016 , 4J002EY026 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 4J100AB07S , 4J100AK31R , 4J100AK32R , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL24P , 4J100AL26P , 4J100AR11R , 4J100BA03P , 4J100BA03R , 4J100BA03S , 4J100BA04S , 4J100BA11P , 4J100BA11R , 4J100BA16R , 4J100BA20R , 4J100BB01P , 4J100BB03P , 4J100BB12P , 4J100BB18P , 4J100BC04R , 4J100BC07P , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC09R , 4J100BC53P , 4J100BC55R , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

陰画調レジスト像の作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-022341 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-040647 Applicant：松下電器産業株式会社
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-191559 Applicant：住友化学工業株式会社

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