ステージ及び露光装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：三好秀和 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999022758
Publication number (International publication number)：2000223388
Application date： Jan. 29, 1999
Publication date： Aug. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】基板の接触面の面精度に制約されることなく、基板の姿勢を一意的に定めて基板の変形に伴なう位置精度のバラツキを著しく抑制すること。【解決手段】基板をステージ上に形成された軟質ゴム材の圧力調整空洞部上に密着して載置し、その後、バルブ7、8を開閉して圧力調整空洞部内を余圧することにより、基板の変形を、高さ測定装置、制御部、バルブ7、8の開閉、圧力調整空洞部内の余圧、基板の平面度というフィードバックループにて補正して、前記基板の変形に伴なう位置精度のバラツキを著しく抑制する。

Claim (excerpt)：

基板を支持部で支持することによりその姿勢を一意的に定めて保持するステージにおいて、前記基板の一方の面に負荷を与える補正手段を備え、前記基板の表面形状を補正することを特徴とするステージ。

F-Term (7)：

5F046CC10 , 5F046CC11 , 5F046DA05 , 5F046DA27 , 5F046DC05 , 5F046DC11 , 5F046DC12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平4-357820
フォトマスク平面性維持装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-083976 Applicant：株式会社ニコン
フォトマスクの撓み矯正装置およびその方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-010668 Applicant：株式会社オーク製作所

Show all

Return to Previous Page