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J-GLOBAL ID:200903059069595677
分離膜モジュールの洗浄方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
志賀 正武 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995237475
Publication number (International publication number):1997075689
Application date: Sep. 14, 1995
Publication date: Mar. 25, 1997
Summary:
【要約】【課題】 分離膜モジュールを被処理液槽内に浸漬し、ろ液側から吸引して、被処理液をろ過し、このろ過により閉塞した分離膜モジュールを洗浄する方法において、分離膜モジュールの移動を必要とせず、少量の薬液で洗浄可能な分離膜モジュールの洗浄方法を提供する。【解決手段】 分離膜モジュール4を被処理液槽2内に浸漬し、ろ液側から吸引して、被処理液をろ過するろ過装置において、その被処理液槽2内の被処理液を排出した後、分離膜モジュール4のろ液側から、薬液を通液することにより、この分離膜モジュール4の洗浄を行う。
Claim (excerpt):
分離膜モジュールを被処理液槽内に浸漬し、ろ液側から吸引して、被処理液をろ過し、このろ過により閉塞した分離膜モジュールを洗浄する方法であって、被処理液槽内の被処理液を排出した後、分離膜モジュールのろ液側から、薬液を通液することにより分離膜モジュールの洗浄を行うことを特徴とする分離膜モジュールの洗浄方法。
IPC (2):
FI (2):
Patent cited by the Patent: