Pat

J-GLOBAL ID：200903059072851668

光触媒材料の製造方法

Inventor： 筆本 啓之
Applicant, Patent owner： 株式会社ブリヂストン
Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005287651
Publication number (International publication number)：2007098197
Application date： Sep. 30, 2005
Publication date： Apr. 19, 2007
Summary：

【課題】高活性の光触媒材料を、煩雑な工程を経ることなく効率的に製造する。【解決手段】セラミック多孔体に、光触媒と金属を担持させて光触媒材料を製造する方法において、該セラミック多孔体に光触媒ゾルを付着させた後乾燥し、次いで、金属コロイド液を付着させた後乾燥し、その後焼成する。1回の焼成工程でセラミック多孔体への光触媒薄膜の形成と金属コロイド液中の有機分の分解除去を行うため、従来法に比べて製造工程を大幅に簡素化することができ生産効率を高めることができる。その焼成を高温で行うことにより金属コロイド液の有機分を完全に消失させて高活性の光触媒材料を得ることができる。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

セラミック多孔体に、光触媒と金属を担持させて光触媒材料を製造する方法において、 該セラミック多孔体に光触媒ゾルを付着させた後乾燥し、次いで、金属コロイド液を付着させた後乾燥し、その後焼成することを特徴とする光触媒材料の製造方法。

IPC (5)：

B01J 35/02 ,  B01D 53/86 ,  B01J 23/50 ,  B01J 35/04 ,  B01J 37/02

FI (7)：

B01J35/02 J ,  B01D53/36 J ,  B01D53/36 D ,  B01J23/50 A ,  B01J35/04 331B ,  B01J37/02 101C ,  B01J37/02 101D

F-Term (70)：

4D048AA03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA08Y ,  4D048BA10X ,  4D048BA15Y ,  4D048BA16Y ,  4D048BA23Y ,  4D048BA27Y ,  4D048BA30Y ,  4D048BA31Y ,  4D048BA32Y ,  4D048BA33Y ,  4D048BA34X ,  4D048BA35Y ,  4D048BA38Y ,  4D048BA41X ,  4D048BA46Y ,  4D048BB09 ,  4D048EA01 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA05A ,  4G169BA13A ,  4G169BA13B ,  4G169BA22C ,  4G169BA37 ,  4G169BA45A ,  4G169BA48A ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BB09A ,  4G169BC12A ,  4G169BC13A ,  4G169BC31A ,  4G169BC32A ,  4G169BC32B ,  4G169BC33A ,  4G169BC35A ,  4G169BC36A ,  4G169BC54A ,  4G169BC60A ,  4G169BC68A ,  4G169BC70A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC75A ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA17 ,  4G169DA05 ,  4G169EB11 ,  4G169EC22X ,  4G169FA01 ,  4G169FA03 ,  4G169FB15 ,  4G169FB19 ,  4G169FB30 ,  4G169FB31 ,  4G169FC07 ,  4G169HA05 ,  4G169HB02 ,  4G169HC29 ,  4G169HD06 ,  4G169HD09 ,  4G169HE02 ,  4G169HE03 ,  4G169HE05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開平03-157125号公報
  

Cited by examiner (8)

• 光触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-144540   Applicant：針谷伸一
• 光触媒保持体およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-215910   Applicant：株式会社ノリタケカンパニーリミテド
• 光触媒フィルタとこれを用いた脱臭装置及び水処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-155036   Applicant：株式会社ブリヂストン
• 光触媒担持体とその多孔性基材の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-250848   Applicant：盛和工業株式会社, 科学技術振興事業団, 藤嶋昭
• 光触媒担持体及びガス処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-348041   Applicant：株式会社明電舎, 東京都下水道サービス株式会社
• 基体上に形成されたチタニア系結晶体からなるナノ構造体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-295668   Applicant：独立行政法人物質・材料研究機構
• 特開平3-157125
  
• 流体フィルタ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-127248   Applicant：株式会社ブリヂストン