Pat
J-GLOBAL ID:200903059149126805

高輝度・高出力微小X線発生源とそれを用いた非破壊検査装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山口 隆生
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002187177
Publication number (International publication number):2004028845
Application date: Jun. 27, 2002
Publication date: Jan. 29, 2004
Summary:
【課題】微小なスポットで且つ高輝度を実現するX線発生源と、それを用いた高密度多層プリント基板等の非破壊検査装置を提供する。【解決手段】X線発生源は、真空ダクト6の底部にターゲット15が配置され、ターゲット15はX線発生効率の高い重元素のタングステン(W)又はモリブデン(Mo)でなる単一の柱状の金属ワイヤで形成されている。当該ターゲットは長さと断面の最大径の比が1.5以上の柱状とし、重元素のターゲット15は冷却と保持を兼ねて、ベリリウム(Be)又はカーボン(C)の軽元素からなる基板8に埋設されている。更に、ターゲット15と基板8を囲む状態で冷却装置9を配置し、冷却装置9は冷媒18を密封したヒートポンプ構造17、又は冷媒を流体として基板8を取り囲む流路に流す構造とする。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
電子ビームを金属ターゲットに照射し、ターゲットの電子ビームとは反対側からX線を発生させる透過型X線発生源に用いられ、当該ターゲットを柱状とし、当該ターゲットの片側断面に、この断面より大きな径を有する電子ビームを照射してX線を発生させる高輝度・高出力微小X線発生源。
IPC (4):
G21K5/08 ,  G01N23/04 ,  G21K5/02 ,  H05G1/52
FI (4):
G21K5/08 X ,  G01N23/04 ,  G21K5/02 X ,  H05G1/52 A
F-Term (15):
2G001AA01 ,  2G001BA11 ,  2G001CA01 ,  2G001JA02 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  4C092AA01 ,  4C092AB21 ,  4C092AC08 ,  4C092BD05 ,  4C092BD11 ,  4C092BD16 ,  4C092BD17 ,  4C092BD19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • マイクロX線ターゲット
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-203412   Applicant:石川島播磨重工業株式会社
  • 特開平3-274500
  • X線ターゲット
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2000-028647   Applicant:山田廣成
Show all

Return to Previous Page