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J-GLOBAL ID：200903059188729754

フラーレン誘導体並びにその溶液、製造方法及び膜

Inventor： 川上 公徳
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 真田 有
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007205154
Publication number (International publication number)：2008239595
Application date： Aug. 07, 2007
Publication date： Oct. 09, 2008
Summary：

【課題】PGMEA等のエステル溶媒に対して高い溶解性を有し、低コストで容易に製造可能なフラーレン誘導体を提供する。【解決手段】フラーレン骨格の式(I)で表わされる部分構造において、C1が例えばクロチル基と結合しており、C6〜C8が各々独立に、例えば4-ヒドロキシフェニル基と結合している。(式(I)中、C1〜C10は何れも、フラーレン骨格を構成する炭素原子を表わす。)【選択図】なし

Claim (excerpt)：

フラーレン骨格の下記式(I)で表わされる部分構造において、C1が、下記式(II)で表わされる構造の有機基と結合しており、C6〜C8が各々独立に、下記式(III)で表わされる構造の有機基と結合していることを特徴とするフラーレン誘導体。

IPC (4)：

C07C 39/23 ,  C07C 37/055 ,  C07C 41/30 ,  C07C 43/215

FI (4)：

C07C39/23 ,  C07C37/055 ,  C07C41/30 ,  C07C43/215

F-Term (19)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB99 ,  4H006AC24 ,  4H006AC29 ,  4H006AC42 ,  4H006BA05 ,  4H006BA43 ,  4H006BE56 ,  4H006BE90 ,  4H006FC36 ,  4H006FC52 ,  4H006FC74 ,  4H006FE13 ,  4H006GP03 ,  4H039CA41 ,  4H039CD10 ,  4H039CD90 ,  4H039CL25

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• フラーレン誘導体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-210028   Applicant：中村栄一, 三菱化学株式会社
• フラーレン誘導体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-157248   Applicant：中村栄一, 三菱化学株式会社

Cited by examiner (4)

• フラーレン誘導体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-157248   Applicant：中村栄一, 三菱化学株式会社
• レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-042472   Applicant：信越化学工業株式会社
• 炭素クラスター誘導体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-344616   Applicant：中村栄一, 三菱化学株式会社
• 新規フラーレン誘導体およびその合成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-356356   Applicant：富士ゼロックス株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Organometallics, 2004, 23(13), p.3259-3266