レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：小島隆司 , 重松沙織 , 小林克成 , 石川武史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005042472
Publication number (International publication number)：2006227398
Application date： Feb. 18, 2005
Publication date： Aug. 31, 2006
Summary：

【解決手段】下記一般式(1)で示されるフェノール基を有するフラーレン類を添加することを特徴とするレジスト材料。【化1】(式中、Rは水素原子、又は炭素数1〜4のアルキル基、R1〜R5は水素原子又は酸不安定基である。a、b、c、d、eはそれぞれ0〜2の整数であり、1≦a+b+c+d+e≦10の整数である。)【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるフラーレン類を含有することを特徴とするレジスト材料。

IPC (3)：

G03F 7/039 , G03F 7/038 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F7/039 601 , G03F7/038 601 , H01L21/30 502R

F-Term (16)：

2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB00 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC03 , 2H025CC04 , 2H025CC20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

特公平7-69611号公報
感光材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-196572 Applicant：日本石油株式会社
レジスト組成物及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-149744 Applicant：日本電信電話株式会社

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Cited by examiner (5)

電子線レジスト、レジストパターンの形成方法及び微細パターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-059547 Applicant：工業技術院長
電子線レジスト
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-257122 Applicant：ザユニバーシティオブバーミンガム, 金山敏彦, 多田哲也, 工業技術院長
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-281078 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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