オルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：荒井鐘司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001167949
Publication number (International publication number)：2002363408
Application date： Jun. 04, 2001
Publication date： Dec. 18, 2002
Summary：

【要約】【課題】安定性に優れ、低分子量シロキサン含有量の少ないオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法。【解決手段】下記(A)〜(B)を含有するエマルジョンを平均粒径50〜250nmになるように、乳化分散させて初期エマルジョンを得、このエマルジョンを塩基性触媒の存在下または非存在下で縮重合させ、次いで中和するオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法。(A)一般式(1) H-[O-Si(R)2]n-OHで示される末端ヒドロキシオルガノポリシロキサン、(B)官能基含有オルガノアルコキシシラン、(C)界面活性剤、(D)水。

Claim (excerpt)：

下記(A)〜(B)を含有するエマルジョンを平均粒径50〜250nmになるように、乳化分散させて初期エマルジョンを得、このエマルジョンを塩基性触媒の存在下または非存在下で縮重合させ、次いで中和することを特徴とするオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法。(A)下記一般式(1)H-[O-Si(R)2]n-OH............(1)(式中、Rは炭素数1〜20の置換あるいは非置換の1価炭化水素基、nは10≦n≦200を満足する整数を示す。)で示され、且つ、ケイ素原子数が10以下の環状低分子量シロキサン含有率が5重量%以下である末端ヒドロキシオルガノポリシロキサン、(B)官能基含有オルガノアルコキシシラン、(C)界面活性剤、(D)水。

IPC (2)：

C08L 83/04 , C08G 77/06

FI (2)：

C08L 83/04 , C08G 77/06

F-Term (27)：

4J002CH032 , 4J002CP061 , 4J002EH157 , 4J002EN027 , 4J002EN137 , 4J002EU117 , 4J002EX026 , 4J002EX066 , 4J002EX076 , 4J002EX086 , 4J002FD312 , 4J002FD317 , 4J035BA03 , 4J035BA04 , 4J035CA06U , 4J035CA11M , 4J035CA19M , 4J035CA26M , 4J035FB01 , 4J035LA07 , 4J035LA08 , 4J035LB01 , 4J035LB04 , 4J035LB07 , 4J035LB08 , 4J035LB09 , 4J035LB10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

ポリオルガノシロキサンエマルジョンおよびそれを用いる化粧料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-169725 Applicant：東芝シリコーン株式会社
オルガノポリシロキサンエマルションの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-225688 Applicant：信越化学工業株式会社
特開平4-103632

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