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J-GLOBAL ID：200903059637590596

合成ダイヤモンドのアブレーション法と得られたダイヤモンド

Inventor： ラビンドラ エヌ.チャックラボーティ ,  ドニー ケー.レインハード ,  マイケル ジェイ.フェレッチア ,  ポール ディー.ゴールドマン
Applicant, Patent owner： サン ゴバン/ノートン インダストリアル セラミックス コーポレイション
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996137645
Publication number (International publication number)：1996301692
Application date： May. 07, 1996
Publication date： Nov. 19, 1996
Summary：

【要約】【課題】 ダイヤモンドウェハーをプラズマエッチングによって高いエッチング速度でアブレーションする方法であって、特に表面に不規則性形状のピットが存在しないアブレーション方法を提供する。【解決手段】 a)ダイヤモンド表面にコロイド性グラファイトを施し、b)コロイド性グラファイトを帯びたダイヤモンド表面をプラズマエッチングに供する、各工程を含む合成ダイヤモンドのアブレーション方法。好ましくは、c)プラズマエッチングの後にその表面をアブレーションに供する工程をさらに含み、プラズマエッチングに供するその工程に酸素が存在し、リアクターへの供給電力が約500〜1500W、高周波バイアスが約-100V〜-300Vであり、その酸素、アルゴン、及びSF6 の流量がそれぞれ約20〜40、0〜20、及び1〜4sccmであり、エッチングを約2〜10ミリトールの圧力で行う。

Claim (excerpt)：

a)ダイヤモンド表面にコロイド性グラファイトを施し、b)コロイド性グラファイトを帯びたダイヤモンド表面をプラズマエッチングに供する、各工程を含む合成ダイヤモンドのアブレーション方法。

IPC (2)：

C30B 29/04 ,  B01J 19/08

FI (3)：

C30B 29/04 V ,  C30B 29/04 N ,  B01J 19/08 H

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• ダイヤモンドの平坦化法および研磨法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-034632   Applicant：住友電気工業株式会社