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J-GLOBAL ID：200903059736471205

基板処理設備のための現場真空ライン清浄用平行平板装置

Inventor： ベン パン ,  デイヴィッド チュン ,  ウィリアム エヌ. テイラー ジュニア ,  セバスチャン ラウ ,  マーク フォダー
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997299059
Publication number (International publication number)：1998144669
Application date： Oct. 30, 1997
Publication date： May. 29, 1998
Summary：

【要約】【課題】 基板処理チャンバの排出ライン内の堆積を最小にする装置を提供する。【解決手段】 この装置は、第1と第2の電極を備え、両電極の対向表面間に流体管路を画成している。前記流体管路は入口と、出口と、入口および出口間の収集チャンバとを持つ。この装置は、その入口において基板処理チャンバの排気を受けるように接続される。収集チャンバは流体管路中を流れる粒子状物質を収集し、収集チャンバから粒子状物質が流出しないように構成されている。プラズマ発生装置が上記両電極へ電力を供給し、流体管路内のエッチャントガスからプラズマを形成する。プラズマからの成分がチャンバ内に収集された粒子状物質と反応してガス状生成物となり、前記流体管路外へ排気される。この装置は、収集チャンバ内でのパーティクル収集能力を高めるため、および粒子状物質の流出を一層阻止するため、静電コレクタを更に備えることができる。

Claim (excerpt)：

基板処理チャンバから排出されるパーティクルを収集するための装置であって、それぞれが対向する表面を有する第1および第2の電極であって、この対向する表面は、これらの表面の間に流体管路を画成している、第1および第2の電極を備え、前記流体管路は、入口、出口および前記入口と前記出口との間に位置する収集チャンバを有しており、前記収集チャンバは、前記流体管路を通って流れる粒子状物質を収集し、前記粒子状物質が前記収集チャンバから流出することを阻止するように構成されている装置。

IPC (3)：

H01L 21/31 ,  B03C 3/02 ,  H01L 21/205

FI (3)：

H01L 21/31 C ,  B03C 3/02 Z ,  H01L 21/205

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 特開平2-271527
  
• 特開昭63-028869
  
• CVD装置の排気ガスの異物捕獲方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-034123   Applicant：日立電子エンジニアリング株式会社
• 特開平1-307429
  
• 特開平2-125876
  
• 特開昭55-003885