安定な抗日光化粧品組成物とその製造方法並びにその使用方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995029902
Publication number (International publication number)：1995252124
Application date： Feb. 17, 1995
Publication date： Oct. 03, 1995
Summary：

【要約】【目的】皮膚および/または髪を紫外線から防御するために意図された、安定な抗日光化粧品組成物とその製造方法並びに化粧処理方法を提供する。【構成】油性相を構成する小球体の平均粒径が100nm〜1000nmであるO/W型エマルションの媒体中に、光防御剤として金属酸化物を主成分とする無機微小顔料を含有する、皮膚および/または髪の光防御のために局部的に使用される抗日光化粧品組成物であって、アルカリ金属および/またはアルカリ土類金属の少なくとも一種の混合ケイ酸塩を含有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

油相を構成する小球体の平均粒径が100nm〜1000nmである化粧品として許容可能なO/W型エマルションのビヒクル中に、光防御剤として金属酸化物を主成分とする無機微小顔料を含有する、皮膚および/または髪の光防御等のために局部的に使用される抗日光化粧品組成物であって、アルカリ金属および/またはアルカリ土類金属の少なくとも一種の混合ケイ酸塩を含有することを特徴とする抗日光化粧品組成物。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

ジオルガノポリシロキサンミクロエマルジヨンの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-325346 Applicant：信越化学工業株式会社
特開昭59-203633
特開昭63-150221

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