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J-GLOBAL ID：200903059851518738

ほう素含有廃棄物の処理方法と処理装置

Inventor： 豊 原 尚 実 ,  佐 藤 龍 明 ,  野 田 哲 也 ,  鈴 木 典 子 ,  高 松 義 成
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝 ,  東芝エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000016776
Publication number (International publication number)：2000284092
Application date： Jan. 26, 2000
Publication date： Oct. 13, 2000
Summary：

【要約】【課題】 廃液ラインの詰まりを防止し、乾燥機への廃液の供給性を向上し、インドラムミキシング法を可能とし、セメント固化体の強度を高める、ほう素含有廃棄物の処理方法と処理装置を提供する。【解決手段】 ほう素含有廃液に、アルカリ金属元素化合物およびアルカリ土類金属元素化合物を添加する工程と、次いで前記ほう素含有廃液を、乾燥粉体化する工程とを有し、前記アルカリ金属元素化合物またはアルカリ土類金属元素化合物のいずれか一方の添加時から前記乾燥粉体化までの間の前記ほう素含有廃液の温度を、ほう素とアルカリ金属とを含む化合物およびほう素とアルカリ土類金属とを含む化合物の析出温度以上に維持する、ほう素含有廃液の処理方法。

Claim (excerpt)：

ほう素含有廃液に、アルカリ金属元素化合物およびアルカリ土類金属元素化合物を添加する工程と、次いで前記ほう素含有廃液を、乾燥粉体化する工程とを有し、前記アルカリ金属元素化合物またはアルカリ土類金属元素化合物のいずれか一方の添加時から前記乾燥粉体化までの間の前記ほう素含有廃液の温度を、ほう素とアルカリ金属とを含む化合物およびほう素とアルカリ土類金属とを含む化合物の析出温度以上に維持することを特徴とする、ほう素含有廃液の処理方法。

IPC (3)：

G21F 9/16 521 ,  G21F 9/08 511 ,  G21F 9/08 521

FI (3)：

G21F 9/16 521 D ,  G21F 9/08 511 B ,  G21F 9/08 521 G

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特公昭63-051520
  
• ほう酸、ほう酸塩溶液の凝固方法及びこの方法に使用される凝固剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-167912   Applicant：行政院原子能委員会核能研究所
• 放射性廃液の処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-280058   Applicant：株式会社日立製作所

Cited by examiner (4)

• 特公昭63-051520
  
• ほう酸、ほう酸塩溶液の凝固方法及びこの方法に使用される凝固剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-167912   Applicant：行政院原子能委員会核能研究所
• 放射性廃液の処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-280058   Applicant：株式会社日立製作所
• 特公昭63-051520