光学材料およびこれを用いた光導波路

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：谷義一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997000848
Publication number (International publication number)：1998197733
Application date： Jan. 07, 1997
Publication date： Jul. 31, 1998
Summary：

【要約】【課題】耐熱性および耐湿性に優れ、近赤外域の2つの主要通信波長においてともに低損失であり、かつ、導波路製造工程においてクラックが発生しない光学材料、および、該光学材料を用いた光導波路を提供すること。【解決手段】一般式(I)および(II)で表わされる繰り返し単位からなる共重合体または一般式(I)および(III )で表わされる繰り返し単位からなる共重合体を含有する光学材料、および該光学材料の熱硬化物をコアおよびクラッドに用いた光導波路。【化13】

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)および(II)【化1】【化2】[式中、Z1 、Z2 は同一または異なるフェニル基あるいは重水素置換フェニル基を表わす]で表わされる繰り返し単位からなる共重合体を含有することを特徴とする光学材料。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

フッ素化シリコーン樹脂及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-335444 Applicant：ポーラ化成工業株式会社
脱離基を有する新規なシリコーン
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-210099 Applicant：ポーラ化成工業株式会社
光学材料および光学材料用コーティング組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-032496 Applicant：東レ株式会社

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Cited by examiner (1)

フッ素化シリコーン樹脂及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-335444 Applicant：ポーラ化成工業株式会社

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