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J-GLOBAL ID:200903059895240095

液体原料気化装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998195013
Publication number (International publication number):1999087327
Application date: Jun. 25, 1998
Publication date: Mar. 30, 1999
Summary:
【要約】【課題】 高誘電体あるいは強誘電体の素材となる複雑な気化特性を持つような液体原料を効率良く気化するとともに、微少量を精度良く制御し、気化装置内や配管内の詰まりを防止できるようなコンパクトな気化装置を提供する。【解決手段】 液体原料Lを気化させて処理室28に供給するための液体原料気化装置において、液体原料Lを流通させる液体原料流路14と、液体原料流路の下流側の気化流路14aと、該気化流路を加熱するための加熱機構38,40とを備え、該気化流路はその単位流量当たりの受熱面積が2(mm2/mm3)以上である。
Claim (excerpt):
液体原料を気化させて処理室に供給するための液体原料気化装置において、液体原料を流通させる液体原料流路と、前記液体原料流路の下流側の気化流路と、該気化流路を加熱するための加熱機構とを備え、該気化流路はその単位液体量当たりの受熱面積が2(mm2/mm3)以上であることを特徴とする液体原料気化装置。
IPC (3):
H01L 21/31 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205
FI (3):
H01L 21/31 B ,  C23C 16/44 C ,  H01L 21/205
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 液体原料CVD装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-329739   Applicant:株式会社サムコインターナショナル研究所

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