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J-GLOBAL ID：200903060034217775

薄膜半導体装置およびその製造方法

Inventor：
竹中 敏

About 竹中 敏


Applicant, Patent owner：
セイコーエプソン株式会社

About セイコーエプソン株式会社


Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993200861
Publication number (International publication number)：1995056189
Application date： Aug. 12, 1993
Publication date： Mar. 03, 1995
Summary：
【要約】【目的】 様々な簡素化工程により、TFTのオン電流の低減を抑えたままでオフリーク電流を低減して、画素保持特性の優れた液晶ディスプレイを実現する。【構成】 ゲート電極をマスクとして低濃度のイオン注入をし、さらに、コンタクトホールから高濃度のイオン注入する事によってNch薄膜トランジスタのみを選択的にLDD構造とする。PchおよびNchのソース、ドレイン部の濃度差により、フォト工程数を変える。【効果】 画素スイッチングTFTのオフリーク電流およびオフリーク電流のはね上がりが低減する。その結果、フリッカや表示ムラが少なく、さらに画素保持特性の優れた液晶ディスプレイが実現される。また、オン電流の低減はない。
Claim (excerpt)：
ソース領域、ドレイン領域、ゲート絶縁膜およびゲート電極を有するPch薄膜トランジスタとNch薄膜トランジスタを同一基板上に集積してなる薄膜半導体装置において、前記Nch薄膜トランジスタのソース、ドレイン部はドーズ量1×1015cm-2未満の低濃度とし、ソース、ドレイン電極とのコンタクト部分のみをドーズ量1×1015cm-2以上の高濃度としたことを特徴とする薄膜半導体装置。
IPC (2)：
G02F 1/136 500 ,  H01L 29/786
FI (2)：
H01L 29/78 311 C ,  H01L 29/78 311 S
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 薄膜トランジスター
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-235096   Applicant：セイコーエプソン株式会社
  • 薄膜半導体装置の製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-217070   Applicant：セイコーエプソン株式会社
  • 特開平2-247619

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