Pat

J-GLOBAL ID：200903060105058738

薄膜磁気ヘッドとその製造法及びそれを用いた磁気ディスク装置

Inventor： 岡田 智弘 ,  上野 巧 ,  北 芳明 ,  布川 功 ,  小室 又洋 ,  府山 盛明
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997239268
Publication number (International publication number)：1998143818
Application date： Sep. 04, 1997
Publication date： May. 29, 1998
Summary：

【要約】【課題】本発明の目的は、薄膜磁気ヘッド作製工程の熱処理温度を下げて、処理工程における磁性膜の劣下を防止し、高記録密度の薄膜磁気ヘッドとそれを用いた磁気ディスク装置を提供する。【解決手段】本発明は、上下の磁気コアと導体コイルとの間の絶縁膜がフォトレジストとメラミン樹脂と熱分解により酸を発生する架橋促進剤からなる薄膜磁気ヘッドにあり、特に記録再生分離型薄膜磁気ヘッド及びそれを用いた磁気ディスク装置にある。

Claim (excerpt)：

下部磁性膜と、該下部磁性膜上に積層され一端が前記下部磁性膜に連らなり他端が前記下部磁性膜に磁気ギャップを介して対向し、前記下部磁性膜と共に磁気回路を形成する上部磁気コアと、前記下部磁性膜と上部磁気コアとの間に設けられた導体コイルと、前記下部磁性膜,上部磁気コア及び導体コイルを互いに電気的に絶縁する絶縁膜とを具備する薄膜磁気ヘッドにおいて、前記絶縁膜はフォトレジストと架橋剤と前記フォトレジストと前記架橋剤との架橋促進剤を硬化させたものであることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

IPC (2)：

G11B 5/31 ,  G11B 5/39

FI (3)：

G11B 5/31 F ,  G11B 5/31 K ,  G11B 5/39

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平1-235016
  
• ネガ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-266026   Applicant：三菱化成株式会社