リチウムアルミノシリケート系セラミックス

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000371628
Publication number (International publication number)：2002173364
Application date： Dec. 06, 2000
Publication date： Jun. 21, 2002
Summary：

【要約】【課題】比重2.4〜2.8、ヤング率115〜128GPa、0〜20°Cでの熱膨張率-1.3〜+2.0×10-6/°C、平均結晶粒径が1.0〜2.3μmである軽量低熱膨張セラミックスを提供する。【解決手段】リチウムアルミノシリケートを主成分とし、副成分として周期律表2a族元素の酸化物、酸化チタニウムのいずれか1種を6〜45重量%を含有させる。または、リチウムアルミノシリケートを主成分とし、副成分として周期律表2a族元素の酸化物、酸化チタニウムのうち、いずれか2種以上を2.5〜45重量%含有させる。

Claim (excerpt)：

リチウムアルミノシリケートを主成分とし、副成分として周期律表2a族元素の酸化物、酸化チタニウムのいずれか1種を6〜45重量%含むことを特徴とするリチウムアルミノシリケート系セラミックス。

F-Term (12)：

4G030AA02 , 4G030AA05 , 4G030AA06 , 4G030AA07 , 4G030AA08 , 4G030AA09 , 4G030AA10 , 4G030AA16 , 4G030AA36 , 4G030AA37 , 4G030BA18 , 4G030CA04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

特公昭50-030648
低熱膨張性セラミックス大平板及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-305055 Applicant：ニチアス株式会社
低熱膨張性セラミックス及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-022111 Applicant：京セラ株式会社

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Cited by examiner (7)

特公昭50-030648
特公昭50-030648
低熱膨張性セラミックス大平板及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-305055 Applicant：ニチアス株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

リチア系セラミックス(LAS)の焼結におよぼす原料組成及び添加剤の影響

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