レジスト用塗布液及びそれを用いたレジスト材料

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：阿形明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992327610
Publication number (International publication number)：1994148896
Application date： Nov. 13, 1992
Publication date： May. 27, 1994
Summary：

【要約】【構成】水溶性膜形成成分とフッ素系界面活性剤とを含有して成るレジスト用塗布液、及び該塗布液から成る干渉防止膜を表面に有するレジスト材料。【効果】リソグラフィー技術における干渉作用が低減されるため、結果としてパターン寸法精度の優れたレジストパターンを形成することができる。

Claim (excerpt)：

水溶性膜形成成分とフッ素系界面活性剤とを含有して成るレジスト用塗布液。

IPC (3)：

G03F 7/11 501 , G03F 7/004 504 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平4-249255
特開平4-249257
特開昭60-038821

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