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J-GLOBAL ID：200903095430271888

レジスト表面反射防止膜形成性組成物及びパターン形成方法

Inventor： 西 峰雄 ,  牧島 秀夫
Applicant, Patent owner： 三菱化成株式会社
Agent (1)： 長谷川 一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993126265
Publication number (International publication number)：1994051523
Application date： May. 27, 1993
Publication date： Feb. 25, 1994
Summary：

【要約】【構成】 水溶性フッ素化合物の水溶液からなるレジスト表面反射防止膜形成性組成物、並びに、基板上にフォトレジスト組成物を塗布する工程、上記反射防止膜形成性組成物を塗布する工程、塗布膜に所定パターンを露光する工程、及びフォトレジストを現像する工程からなるパターン形成方法。【効果】 本発明の組成物は、フォトレジスト上に水溶液として塗布できるため、容易に反射防止膜が形成でき、しかも水洗又はアルカリ現像により容易に除去できる。従って、本発明のパターン形成方法により簡便で、しかも寸法精度の高いパターン形成をすることができる。

Claim (excerpt)：

水溶性フッ素化合物の水溶液からなるレジスト表面反射防止膜形成性組成物。

IPC (3)：

G03F 7/11 503 ,  G03F 7/16 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 361 T ,  H01L 21/30 361 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 表面反射防止コーティングフィルム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-128453   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション