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J-GLOBAL ID：200903060268285596

露光方法及び露光装置

Inventor： 杉田 充朗 ,  川島 美代子 ,  斉藤 謙治 ,  鈴木 章義
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998221097
Publication number (International publication number)：2000040656
Application date： Jul. 21, 1998
Publication date： Feb. 08, 2000
Summary：

【要約】【課題】 市松模様が得られる2光束干渉露光と投影露光を融合し、所定の形状のパターン像が容易に得られるマスク及びそれを用いた露光方法を得ること。【解決手段】 通常露光との多重露光により所望のパターンを感光基板上にパターンを転写する為のマスクであって、該マスクは基板上に透過率又は/及び位相が市松模様に異なるように構成したこと。

Claim (excerpt)：

多重露光により所望のパターンを感光基板上に転写する為のマスクであって、該マスクは基板上に透過率又は/及び位相が市松模様に異なるように構成したことを特徴とするマスク。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 502 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 A

F-Term (6)：

5F046AA01 ,  5F046AA05 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046BA08 ,  5F046CB17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• フォトレジストパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-016763   Applicant：株式会社リコー

Cited by examiner (1)

• フォトレジストパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-016763   Applicant：株式会社リコー