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J-GLOBAL ID：200903060298288280

リソグラフィ装置、アナライザ・プレート、サブアセンブリ、投射システムのパラメータ測定方法、及びパターン化手段

Inventor：
ティモテウス フランシスクス サンジェル

About ティモテウス フランシスクス サンジェル

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マルクス アドリアヌス ファン デ ケルコフ

About マルクス アドリアヌス ファン デ ケルコフ


Applicant, Patent owner：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

About エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ


Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  岩本 行夫 ,  吉田 裕
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005362558
Publication number (International publication number)：2006173628
Application date： Dec. 16, 2005
Publication date： Jun. 29, 2006
Summary：
【課題】投影システムによって投射される放射の偏光を測定する能力を備えたリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】投射システムPLと放射センサDSの間のアナライザ・プレートAPが、投射放射ビームによって照らされている。アナライザ・プレートは2つの交差領域を含み、それぞれ異なる偏光方向の放射を透過する。投射放射ビームは、ビームの偏光に影響を与えることなくパターン化される。一方の領域がもう一方の領域より多く放射を受けるように、投射放射ビームをパターン化することによって、放射センサDSは偏光選択性が与えられる。【選択図】図6
Claim (excerpt)：
投射システム(PL)を使用して、断面にパターン装置(MA)からのパターンで放射ビームを投射するように配置されたリソグラフィ装置において、第1の方向に偏光された放射を優先的に通すように配置された第1の領域(LNX、RNX)、及び第2の方向に偏光された放射を優先的に通すように配置された第2の領域(LNY、RNY)を有するアナライザ・プレート(AP)と、前記アナライザ・プレート(AP)の前記第1及び第2の領域を通る放射を測定するように配置された放射センサ(DS)とを備えると共に、前記放射センサによる測定中に、前記パターンによって照らされる第1の領域の区域及び第2の領域の区域を選択することが可能であるリソグラフィ装置であって、前記第2の領域(LNY、RNY)が前記第1の領域(LNX、RNX)と交差することを特徴とするリソグラフィ装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G01J 4/00
FI (3)：
H01L21/30 516A ,  G03F7/20 521 ,  G01J4/00
F-Term (11)：
5F046BA04 ,  5F046CB15 ,  5F046CB17 ,  5F046CB27 ,  5F046CC01 ,  5F046DA01 ,  5F046DA13 ,  5F046DB01 ,  5F046DB11 ,  5F046DC09 ,  5F046DC12
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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