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J-GLOBAL ID：200903075863341758

デバイス製造方法

Inventor： ステファン ジョージ サンセン ,  ドニス ジョージ フラジェロ ,  ミカエル フランソワーズ ヒュベルト クラッセン ,  ロイレンティウス コーネリウス デ ウインテル ,  エトウィン ウィルヘルムス マリー クノルス
Applicant, Patent owner： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  吉田 裕 ,  岩本 行夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004104522
Publication number (International publication number)：2004343079
Application date： Mar. 31, 2004
Publication date： Dec. 02, 2004
Summary：

【課題】例えば微細な隔離ゲートを印刷するための改善された方法および装置、特に改善された処理寛容度および/またはより均一なレンズ加熱を提供する方法および装置を提供すること。【解決手段】本発明によれば、放射線が棒の長さに平行に偏光される矩形または棒状の軸線上照明マスクが提供され、このマスクは、σ値が同等の円形単極に比べて焦点深度DOFおよび露光寛容度を向上させるとともに、比較的小さいレンズ加熱を達成する。【選択図】図3A

Claim (excerpt)：

放射線の投影ビームを提供するための照明システムと、 パターニング手段を支持するための支持構造体であって、前記パターニング手段は、投影ビームの断面にパターンを与えるように機能する支持構造体と、 基板を保持するための基板テーブルと、 パターンが付与されたビームを前記基板のターゲット部分に投影するための投影システムと を有するリソグラフィック投影装置において、 強度分布を規定するための前記手段が、軸線上の実質的に直線の強度分布を投影ビームに与えること、および リソグラフィック投影装置が、前記投影ビームに直線偏光を与えるための偏光手段を有していることを特徴とするリソグラフィック投影装置。

IPC (3)：

H01L21/027 ,  G02B5/18 ,  G03F7/20

FI (4)：

H01L21/30 527 ,  G02B5/18 ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515D

F-Term (10)：

2H049AA03 ,  2H049AA55 ,  2H049AA64 ,  2H049AA69 ,  5F046BA03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB15 ,  5F046CB17 ,  5F046DA01 ,  5F046DB02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-047941   Applicant：株式会社ニコン
• レチクル及びこれを用いた半導体露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-268968   Applicant：富士通株式会社
• 露光装置および露光方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-345162   Applicant：日本電気株式会社
• 偏光放射エネルギーを用いる半導体処理装置および方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-307914   Applicant：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-204989   Applicant：三菱電機株式会社
• 露光装置,露光装置の調整方法,マイクロデバイスの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-091719   Applicant：株式会社ニコン