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J-GLOBAL ID：200903060438378381

レーザ加工装置及びレーザ加工方法

Inventor：
早崎 芳夫

About 早崎 芳夫


Applicant, Patent owner：
国立大学法人徳島大学

About 国立大学法人徳島大学


Agent (2)： 豊栖 康司 ,  豊栖 康弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006231298
Publication number (International publication number)：2008049393
Application date： Aug. 28, 2006
Publication date： Mar. 06, 2008
Summary：
【課題】出力光の精度を極めて高くし、精密に制御できるレーザ加工装置等を提供する。【解決手段】極超短パルスレーザ光を加工対象物質に照射し、極超短パルスレーザ光のエネルギーで加工対象物質に加工を行うレーザ加工装置であって、極超短パルスレーザ光を出力するレーザ光源と、レーザ光源から放射される極超短パルスレーザ光を空間的な任意の形状に成形する空間光変調素子と、成形された極超短パルスレーザ光の各点で生じる多光子吸収により発せられる光エネルギーの波長に感度を有する多光子吸収検出器と、多光子吸収検出器での検出結果に基づき、空間光変調素子が極超短パルスレーザ光を変調可能としている。これにより、レーザ加工装置で現に得られる出力光を多光子吸収検出器で検出し、これに基づいて空間光変調素子を制御できるので、設計上の誤差を調整した極めて高精度な加工が可能となる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
極超短パルスレーザ光を加工対象物質に照射し、該極超短パルスレーザ光のエネルギーで前記加工対象物質に加工を行うレーザ加工装置であって、 極超短パルスレーザ光を出力するレーザ光源と、 該レーザ光源から出力される極超短パルスレーザ光を、前記加工対象物質の置かれる場所において空間的な任意の形状に成形する空間光変調素子と、 該成形された極超短パルスレーザ光の各点で生じる多光子吸収を検出する多光子吸収検出器と、 該多光子吸収検出器での検出結果に基づき、前記空間光変調素子を制御して、前記極超短パルスレーザ光を変調可能であることを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (5)：
B23K 26/073 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  H01S 3/00 ,  G02F 1/01
FI (5)：
B23K26/073 ,  B23K26/00 M ,  B23K26/06 Z ,  H01S3/00 B ,  G02F1/01 B
F-Term (14)：
2H079BA01 ,  2H079CA02 ,  2H079DA08 ,  2H079FA01 ,  2H079GA05 ,  4E068CA01 ,  4E068CC01 ,  4E068CD05 ,  4E068CD08 ,  5F172NN23 ,  5F172NP03 ,  5F172NP18 ,  5F172NR04 ,  5F172NR12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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