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J-GLOBAL ID：200903060462663607

浸炭窒化方法、機械部品の製造方法および機械部品

Inventor：
大木 力

About 大木 力


Applicant, Patent owner：
NTN株式会社

About NTN株式会社


Agent (6)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005354876
Publication number (International publication number)：2007154293
Application date： Dec. 08, 2005
Publication date： Jun. 21, 2007
Summary：
【課題】窒素の侵入速度を向上させ、浸炭窒化処理の効率化を図ることが可能な浸炭窒化方法を提供する。【解決手段】浸炭窒化方法は、0.8質量%以上の炭素を含有する鋼からなる被処理物を浸炭窒化するための浸炭窒化方法であって、熱処理炉内の雰囲気が制御される雰囲気制御工程と、被処理物に付与される温度履歴が制御される加熱パターン制御工程とを備える。雰囲気制御工程は、熱処理炉内の未分解アンモニア濃度を制御する未分解アンモニア濃度制御工程と、熱処理炉内の一酸化炭素および二酸化炭素の少なくともいずれか一方の分圧を制御する分圧制御工程とを含む。雰囲気制御工程では、被処理物中の炭素の活量をac、熱処理炉内の未分解アンモニア濃度をCNとした場合に、γ=ac/CNで定義されるγの値が2以上5以下の範囲になるように、未分解アンモニア濃度制御工程および分圧制御工程が実施される。【選択図】図7
Claim (excerpt)：
0.8質量%以上の炭素を含有する鋼からなる被処理物を浸炭窒化するための浸炭窒化方法であって、 熱処理炉内の雰囲気が制御される雰囲気制御工程と、 前記熱処理炉内において前記被処理物に付与される温度履歴が制御される加熱パターン制御工程とを備え、 前記雰囲気制御工程は、 前記熱処理炉内の未分解アンモニア濃度を制御する未分解アンモニア濃度制御工程と、 前記熱処理炉内の一酸化炭素および二酸化炭素の少なくともいずれか一方の分圧を制御する分圧制御工程とを含み、 前記雰囲気制御工程においては、前記被処理物中の炭素の活量をac、前記熱処理炉内の未分解アンモニア濃度をCNとした場合に、γ=ac/CNで定義されるγの値が2以上5以下の範囲になるように、前記未分解アンモニア濃度制御工程および前記分圧制御工程が実施される、浸炭窒化方法。
IPC (8)：
C23C 8/32 ,  C22C 38/00 ,  C21D 1/06 ,  C21D 1/18 ,  C21D 9/40 ,  F16C 33/64 ,  F16C 33/32 ,  F16C 33/34
FI (9)：
C23C8/32 ,  C22C38/00 301N ,  C21D1/06 A ,  C21D1/06 E ,  C21D1/18 E ,  C21D9/40 A ,  F16C33/64 ,  F16C33/32 ,  F16C33/34
F-Term (25)：
3J101AA02 ,  3J101AA12 ,  3J101AA32 ,  3J101BA10 ,  3J101BA70 ,  3J101DA02 ,  3J101EA02 ,  3J101FA44 ,  4K028AA03 ,  4K028AB06 ,  4K028AC07 ,  4K028AC08 ,  4K042AA14 ,  4K042AA18 ,  4K042AA22 ,  4K042AA23 ,  4K042BA03 ,  4K042BA04 ,  4K042CA01 ,  4K042DA01 ,  4K042DA06 ,  4K042DC02 ,  4K042DC04 ,  4K042DE02 ,  4K042DE06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (5)
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