パターン形成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：中島淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001267054
Publication number (International publication number)：2003076004
Application date： Sep. 04, 2001
Publication date： Mar. 14, 2003
Summary：

【要約】【課題】複雑な工程や高価な装置を必要とせず、高感度で高解像度の微細なパターンが得られ、赤外線レーザ等によりデジタルデータからパターン形成が可能な、応用範囲の広いパターン形成方法を提供する。【解決手段】支持体上に、熱、酸または輻射線により親疎水性が変化する官能基を有る高分子化合物含有層を設けたパターン形成材料に、画像様に加熱、酸の供給または輻射線の照射を行って親疎水性を変化させる受容パターン形成工程と、画像様の受容パターン上に該パターンと親和性を有する流動体を局所的に適用して吸着させ吸着層を形成する吸着層形成工程と、を有する。流動体の局所的な適用は、流動体を吐出可能なインクジェット式記録ヘッドのノズル穴から吐出させることにより行うことが好ましい。

Claim (excerpt)：

支持体上に、熱、酸または輻射線により親疎水性が変化する官能基を有る高分子化合物含有層を設けたパターン形成材料に、画像様に加熱、酸の供給または輻射線の照射を行って、該層の親疎水性を変化させる受容パターン形成工程と、該画像様の受容パターン上に該受容パターンと親和性を有する流動体を局所的に適用して吸着させ吸着層を形成する吸着層形成工程と、を有することを特徴とするパターン形成方法。

IPC (3)：

G03F 7/004 521 , G03F 7/38 511 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/004 521 , G03F 7/38 511 , H01L 21/30 501

F-Term (19)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB15 , 2H025AB17 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BH03 , 2H025CB41 , 2H025FA23 , 2H025FA39 , 2H096AA27 , 2H096BA20 , 2H096EA04 , 2H096EA23 , 2H096GA48 , 2H096GA60 , 5F046AA28 , 5F046BA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特許第3980351号
パターン形成体の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-064282 Applicant：大日本印刷株式会社
カラーフィルターの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-252116 Applicant：シャープ株式会社

Show all

Return to Previous Page