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J-GLOBAL ID：200903060716224226

新規ポリマーおよびそれを含むフォトレジスト組成物

Inventor： バークレー,ジョージ・ジー ,  カポレール,ステファン・ジェー
Applicant, Patent owner： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
Agent (3)： 千田 稔 ,  辻永 和徳 ,  橋本 幸治
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002568097
Publication number (International publication number)：2005508013
Application date： Feb. 25, 2002
Publication date： Mar. 24, 2005
Summary：

本発明は、1以上の1)カルボネート単位および/または2)モノマービニル基に隣接する環酸素を有するモノマーにより供給されるラクトンを含む本発明のポリマーを含むポリマーを含む。本発明は、特に200nm未満などの短波長で描画するための、そのようなポリマーを含むフォトレジストも提供する。

Claim (excerpt)：

光活性成分、並びにi)カルボネート単位、およびii)ビニル基に隣接する環酸素を有するモノマーにより供給されるラクトンの群より選択される単位を含むポリマーを含む、フォトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F7/039 ,  C08F234/02 ,  H01L21/027

FI (3)：

G03F7/039 601 ,  C08F234/02 ,  H01L21/30 502R

F-Term (24)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  4J100AK32R ,  4J100AL08S ,  4J100AR11Q ,  4J100AR32P ,  4J100BC01S ,  4J100BC09S ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 感光膜共重合体、感光膜共重合体の製造方法、感光膜、感光膜の製造方法、単量体の合成方法、半導体装置の製造方法及び半導体装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-368957   Applicant：現代電子産業株式会社
• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-050264   Applicant：富士通株式会社