堆積膜形成方法および堆積膜形成装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長尾達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999166973
Publication number (International publication number)：2000355771
Application date： Jun. 14, 1999
Publication date： Dec. 26, 2000
Summary：

【要約】【課題】電極形状や、周波数に依存する放電の分布、不均一さを緩和し、より均一な放電を可能にし、特に基体の移動方向と直角方向(幅方向、短尺方向)の均一性を改善し、より高性能の積層型素子、より大面積で均一なプラズマの形成が可能で、高い量産性の堆積膜形成方法および堆積膜形成装置を提供すること。【解決手段】長尺の帯状部材からなる基体を、放電空間を有する一つまたは複数の堆積膜形成炉へ連続的に移動させ、該基体上に堆積膜を形成するプラズマCVD法による堆積膜形成方法であって、電極を、前記帯状部材の移動方向に平行な対向する堆積膜形成炉壁から交互に同一本数ずつ複数個、前記一つまたは複数の堆積膜形成炉の放電空間に導入し、前記電極を前記基体の移動方向の同一平面内に平行に配置する。

Claim (excerpt)：

長尺の帯状部材による基体を、放電空間を有する一つまたは複数の堆積膜形成炉へ連続的に移動させ、該放電空間に原料ガスを導入するとともに該放電空間の電極に電力を供給してグロー放電を生起・維持し、該基体上に堆積膜を形成するプラズマCVD法による堆積膜形成方法であって、前記電極を、前記帯状部材の移動方向に平行な対向する堆積膜形成炉壁から交互に同一本数ずつ複数個、前記一つまたは複数の堆積膜形成炉の放電空間に導入し、前記基体の移動方向の同一平面内に平行に配置した電極で構成し、該電極に電力を供給してグロー放電を生起・維持することを特徴とする堆積膜形成方法。

IPC (4)：

C23C 16/50 , C23C 16/54 , G03G 5/08 360 , H01L 21/205

FI (4)：

C23C 16/50 A , C23C 16/54 , G03G 5/08 360 , H01L 21/205

F-Term (40)：

2H068DA23 , 2H068DA71 , 2H068EA24 , 2H068EA30 , 4K030AA06 , 4K030AA17 , 4K030BA09 , 4K030BA29 , 4K030BA30 , 4K030BB04 , 4K030CA17 , 4K030FA03 , 4K030GA14 , 4K030JA16 , 4K030JA18 , 4K030JA20 , 4K030KA08 , 4K030KA15 , 4K030KA20 , 4K030KA30 , 4K030KA46 , 5F045AA08 , 5F045AA09 , 5F045AB01 , 5F045AB03 , 5F045AB04 , 5F045AC01 , 5F045AD06 , 5F045AD07 , 5F045AE17 , 5F045AE21 , 5F045AF10 , 5F045BB01 , 5F045BB08 , 5F045CA13 , 5F045DA52 , 5F045DP22 , 5F045DQ15 , 5F045EH04 , 5F045EH20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

プラズマ発生用高周波電極と、該電極により構成されたプラズマCVD装置及びプラズマCVD法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-311337 Applicant：キヤノン株式会社
特開平4-141594

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