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J-GLOBAL ID：200903060837186178

磁界の測定方法およびこれを用いた荷電粒子線装置

Inventor： 鈴木 寛 ,  品田 博之 ,  黒田 勝広 ,  矢島 裕介 ,  ▲高▼橋 由夫 ,  中島 真人 ,  斎藤 英雄
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994025065
Publication number (International publication number)：1995234268
Application date： Feb. 23, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】 空間の各点における磁界の大きさと方向を高空間分解能、高磁界感度で測定する。【構成】 画像として不規則な模様が得られる試料に荷電粒子線を透過させて、第1の像を得る。さらに、試料と像面との間で荷電粒子線の通る空間に被測定磁界を配置して、上述と同様に不規則な模様の第2の像を得る。第1の像と第2の像を用いた画像処理から、荷電粒子線の被測定磁界による偏向角を求める。この偏向角の抽出を測定を行いたい空間の断面全体について行い、荷電粒子線による磁界の投影データを構築する。さらに被測定磁界を回転させ、各方向から上記の処理を行い、投影データの構築を行う。得られた投影データとコンピュータ断層映像手法で空間の各点の磁界を求める。【効果】 微小空間領域に存在する磁界を磁界発生試料の平坦平面極近傍で高空間分解能かつ高感度で測定することが可能になる。

Claim (excerpt)：

参照試料に荷電粒子線を透過し、荷電粒子線を所望の倍率で結像して第1の像を検出する工程と、検出した第1の像を記憶する工程と、荷電粒子線を参照試料に透過させた後に、被測定磁界の含まれる領域を通過し、被測定磁界により偏向を受けた荷電粒子線を所望の倍率で結像して第2の像を検出する工程と、検出した第2の像を記憶する工程と、記憶した第1の像と第2の像とを用いてマッチング演算処理を行なう工程と、マッチング演算処理により荷電粒子線の変位量を求める工程と、変位量に基づいて空間の被測定磁界を求める工程からなることを特徴とする磁界の測定方法。

IPC (5)：

G01R 33/028 ,  G01R 33/10 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/26 ,  H01J 37/28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭49-083485
  
• 透過型電子顕微鏡による磁性体の観察方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-266093   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開平4-299474